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磁流體超精研磨及彈性發(fā)射加工(EEM)與集成電路

眾多學(xué)者提出了多種拋光方法包括化學(xué)機(jī)械拋光、水合拋光、彈性發(fā)射加工、浮動(dòng)拋光、磁流體拋光、電泳拋光、快速可更新的研磨拋光等技術(shù)其中。[#]

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